更新時(shí)間：2024-12-19
工業(yè)CT定位光標(biāo)誤差模體滿(mǎn)足《工業(yè)用 X 射線 CT 裝置校準(zhǔn)規(guī)范》JJF 2043-2023 校準(zhǔn)規(guī)范的要求。
工業(yè)CT定位光標(biāo)誤差模體
圓柱形(材質(zhì) PMMA)，高度在 15 mm 以上，插件位置誤 差不大于 0.5 mm。采用均質(zhì)材料制成圓柱形定位光標(biāo)誤差模體(材質(zhì) PMMA)，表面應(yīng)有清晰易見(jiàn)的定位標(biāo)記 , 內(nèi)部嵌有與均質(zhì)環(huán)境成高對(duì)比的特定形狀的物體 , 此物體形狀和位置與定位光標(biāo)誤差體模的定位標(biāo)記具有嚴(yán)格空間幾何關(guān)系。滿(mǎn)足《工業(yè)用 X 射線 CT 裝置校準(zhǔn)規(guī)范》JJF 2043-2023 校準(zhǔn)規(guī)范的要求。
工業(yè)CT定位光標(biāo)誤差模體
圓柱形(材質(zhì) PMMA)，高度在 15 mm 以上，插件位置誤 差不大于 0.5 mm。采用均質(zhì)材料制成圓柱形定位光標(biāo)誤差模體(材質(zhì) PMMA)，表面應(yīng)有清晰易見(jiàn)的定位標(biāo)記 , 內(nèi)部嵌有與均質(zhì)環(huán)境成高對(duì)比的特定形狀的物體 , 此物體形狀和位置與定位光標(biāo)誤差體模的定位標(biāo)記具有嚴(yán)格空間幾何關(guān)系。滿(mǎn)足《工業(yè)用 X 射線 CT 裝置校準(zhǔn)規(guī)范》JJF 2043-2023 校準(zhǔn)規(guī)范的要求。
采用均質(zhì)材料制成圓柱形定位光標(biāo)誤差模體(材質(zhì) PMMA)，表面應(yīng)有清晰易見(jiàn)的定位標(biāo)記 , 內(nèi)部嵌有與均質(zhì)環(huán)境成高對(duì)比的特定形狀的物體 , 此物體形狀和位置與定位光標(biāo)誤差體模的定位標(biāo)記具有嚴(yán)格空間幾何關(guān)系。滿(mǎn)足《工業(yè)用 X 射線 CT 裝置校準(zhǔn)規(guī)范》JJF 2043-2023 校準(zhǔn)規(guī)范的要求。
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